钨溅射靶材的生产工艺
得益于钨溅射靶材本身所具有的优点，其已被广泛用于航空、电子信息产业、医疗和熔炼设备等需要镀膜领域。靶材可以由钨粉或直接用钨坯制备，可以运用真空熔炼、普通热压、冷压烧结等方法，通过金属熔炼、粉末冶金、非金属粉末方法成型。
钨溅射靶材的生产工艺：
钨溅射靶材经钨粉冲压成型，烧结，热等静压压制，开花，冷轧，退火，切割加工之后和一个铜背板绑定。
通过锻造、热轧或冷轧，再经过热处理消除靶材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性。
对处理过的靶材进行车、铣、刨、磨等机加工过程。
清洗、烘干。
有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。
最后经过超声波或者X光等检测，包装。
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