钨靶材
什么是靶材？
靶材是用来充当高速荷能粒子轰击的目标材料。 用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。
目前，最常用的是镀膜靶材，其原理是在适宜的工艺环境下，通过磁控溅射技术、多弧离子镀技术等镀膜技术，溅射在基板上以形成各种功能性薄膜的溅射源。利用不同的靶材原材料--纯金属（钨、钼等）、合金（钨铜、银钨等）等，可以获得不同性能的薄膜，如，耐磨、耐腐蚀或是超硬膜等。
什么是钨靶材？
钨靶材即纯钨靶材，是由纯度99.95%以上的钨材制作而成，具有银白色金属光泽，是以纯钨粉为原材料制成的，也被称之为钨溅射靶材，具有高熔点、较好的弹性、低的膨胀系数、良好的热稳定性等优点，已被广泛应用于薄膜材料、半导体集成电路、X-射线管、医疗和熔炼设备、稀土冶炼、航空等领域。
牌号：W1
含氧：≤20ppm
纯度：≥99.95％
密度：≥19.1g/cm³
偏转角力：≈500Mpa
质量标准：GB/T 3875-2006
平均透明纹理的直径：≤100um
外形：长靶，方靶，圆靶，管靶，异型靶
表面：磨光，车光，抛光
| 产品名称 | 厚度 | 宽度 | 长度 | 平行度 | 垂直度 | 表面光洁度 |
| 纯钨靶材 | 8.0~16.0 | 10~450 | 10~500 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 |
| 3.0~8.0 | 10~450 | 10~800 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 | |
| 1.0~3.0 | 10~450 | 10~1200 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 |
为什么选择纯钨作为靶材原材料？
因为钨靶材具有以下优点：
1. 高纯度，烧结锻打后的钨靶可以99.95%的密度甚至更高；
2. 成型快，采用粉末冶金，直接压制成型；
3. 高致密度，锻打后的钨靶材密度可达到19.1g/cm3以上；
4. 粉末冶金法的广泛应用，使钨靶成本比钛等其他靶材低；
5. 成分均匀、组织结构都是均匀的，提高了钨靶的偏转力度；
6. 较细小的晶粒尺寸，晶粒均匀且等轴，一致性较高，镀膜成品质量也相对较高。
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