钨溅射靶材
什么是钨溅射靶材？
钨溅射靶材，人们也将其称为纯钨靶材，其质量好坏会直接影响薄膜材料的性能，所以它需要满足以下几点要求：
1.高纯度；钨溅射靶材的纯度越高，溅射喷膜的效果---膜的耐腐性也越强，其电学及光学性能会越好。通常情况下，显示器和半导体器件等对溅射靶材的纯度要求比较严格，比如，钨靶材用于磁性薄膜的纯度一般要求其高于99.9％。
2.高致密度：大于等于19.1g/cm³；
3.晶粒尺寸要小；通常情况下，晶粒的量级为μm-㎜，对于同种成分的靶材，细小晶粒尺寸的靶材的溅射速率比粗晶粒的快。
4.杂质含量要低；溅射中的阴极是由靶材来充当的，溅射靶材的主要污染源来自气孔中的的水、氧气和固体中的杂质等。杂质含量越低，纯度就越高。
钨溅射靶材有哪些？
按组成，可将其分为纯金属溅射靶材、合金溅射靶材和陶瓷溅射靶材。
靶材种类及其组成表
| 种类 | 组成 |
| 纯金属 | W（钨）、Mo（钼）、Ni（镍）、Ti（钛）、Al（铝）、Ag（银）、Si（硅）、In（铟）、Sn（锡） Cr（铬）、Zr（锆）、钽（T）、Ce（铈）等 |
| 合金 | W-Cu（钨铜合金）、Ag-W（银钨合金）、Cu- Ni（铜镍合金）、Mo- Al（钼铝合金）等 |
| 陶瓷 | ITO靶【InO（氧化铟）、SnO（氧化锡）】、NiO（氧化镍）、WO3（三氧化钨）、TiN（氮化钛）、SiO（一氧化硅）、FeO（氧化铁）、SiC（碳化硅）、ZnO（氧化锌）、TiN（氮化钛）、MgO（氧化镁）、SiN（氮化硅）、CrO（氧化铬）、ZnS（硫化锌）、SiO2（二氧化硅）、AlN（氮化铝）等 |
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