鎢濺射靶材原理
鎢濺射靶材的原材料為鎢粉，其常用類型有電弧靶型、平面靶型和旋轉靶型。
濺射：當正離子經電場加速後（以下稱為高能粒子）在轟擊靶材表面，這些高能粒子會與靶材表面的分子、原子交換能量，然後這些原子會從靶材表面濺射出來的現象。
真空濺射鍍膜（濺射薄膜沉積）：因為飛濺出來的原子本身具有一定的動能，所以，它們能夠重新回到靶材表面並形成一層薄膜，此過程稱為真空濺射鍍膜。
鎢濺射靶材原理：
在高真空室（10-3-10-4Pa）中，在陰極（被濺射的靶極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，然後再充入惰性氣體（氬氣）。在靶材料表面，永久磁鐵會形成磁場並與高壓電場組成正交電磁場。氬氣在電場的作用下電離成離子和電子，而從靶極射出的電子，因為受到了磁場的作用，所以，會在陰極附近會形成等離子體（具有高密度）。Ar離子加速並轟擊靶面，原子會從靶上濺射出來並以較大的動能飛向基片，然後澱積成膜。
鎢靶材的濺射鍍膜需要考慮到的問題主要有以下幾點：
（1）薄膜的純度。真空度要好；要潔淨基片。
（2）沉積速率。如果適當提高沉積速率，濺射速率也會有所提高。
（3）膜厚分佈。膜厚應當比較均勻。
（4）濺射氣體的選擇。通常選擇氬氣作為濺射氣體。
（5）濺射電壓和基片電位。基片不可懸浮。
（6）鎢靶材的純度。鎢靶材表面的氧化物和雜質等會污染薄膜的純度。
（7）基片的溫度。溫度過高會影響膜層的結構。
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