鎢濺射靶材
什麼是鎢濺射靶材？
鎢濺射靶材，人們也將其稱為純鎢靶材，其品質好壞會直接影響薄膜材料的性能，所以它需要滿足以下幾點要求：
1.高純度；鎢濺射靶材的純度越高，濺射噴膜的效果---膜的耐腐性也越強，其電學及光學性能會越好。通常情況下，顯示器和半導體器件等對濺射靶材的純度要求比較嚴格，比如，鎢靶材用於磁性薄膜的純度一般要求其高於99.9％。
2.高緻密度：大於等於19.1g/cm³；
3.晶粒尺寸要小；通常情況下，晶粒的量級為μm-㎜，對於同種成分的靶材，細小晶粒尺寸的靶材的濺射速率比粗晶粒的快。
4.雜質含量要低；濺射中的陰極是由靶材來充當的，濺射靶材的主要污染源來自氣孔中的的水、氧氣和固體中的雜質等。雜質含量越低，純度就越高。
5.成分與組織結構要均勻。
鎢濺射靶材有哪些？
按組成，可將其分為純金屬濺射靶材、合金濺射靶材和陶瓷濺射靶材。
靶材種類及其組成表
| 種類 | 組成 |
| 純金屬 | W（鎢）、Mo（鉬）、Ni（鎳）、Ti（鈦）、Al（鋁）、Ag（銀）、Si（矽）、In（銦）、Sn（錫） Cr（鉻）、Zr（鋯）、鉭（T）、Ce（鈰）等 |
| 合金 | W-Cu（鎢銅合金）、Ag-W（銀鎢合金）、Cu- Ni（銅鎳合金）、Mo- Al（鉬鋁合金）等 |
| 陶瓷 | ITO靶【InO（氧化銦）、SnO（氧化錫）】、NiO（氧化鎳）、WO3（三氧化鎢）、TiN（氮化鈦）、SiO（一氧化矽）、FeO（氧化鐵）、SiC（碳化矽）、ZnO（氧化鋅）、TiN（氮化鈦）、MgO（氧化鎂）、SiN（氮化矽）、CrO（氧化鉻）、ZnS（硫化鋅）、SiO2（二氧化矽）、AlN（氮化鋁）等 |
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