鎢濺射靶材應用於薄膜材料
薄膜材料的厚度小於1μm，膜還有另一類，即厚膜，其厚度大於1μm。
常見的塑膠薄膜材料有尼龍薄膜（PA）、鍍鋁薄膜、聚酯薄膜（PET）、低密度聚乙烯薄膜（LDPE）、雙向拉伸聚丙烯薄膜（BOPP）等。薄膜材料已經被廣泛應用於醫藥、化工、食品等領域，其中，食品包裝占的比例最大，比如，速食食品包裝、速凍食品包裝、飲料包裝等等。
當前一種新方法---物理氣相沉積法（PVD）已經被用來濺射薄膜材料，其中，鎢濺射靶材作為目標靶材。採用該方法做出來的薄膜具有無裂紋、高密度、無重皮、無分層、無雜質、表面平滑且具有良好的粘合性等優良特性。隨著人們對高純金屬和合金的需求的增長，磁控濺射技術逐漸走入大眾的視野。它可以和兩個較舊濺射圖謀以及最新的處理設備一起工作，例如，為太陽能或燃料電池和倒裝晶片的應用大面積塗層。
物理氣相沉積法（PVD-Physical Vapor Deposition）是氣相沉積技術的一種，其餘兩種分別為化學氣相沉積（CVD-Chemical Vapor Deposition）和等離子體氣相沉積（PCVD-Plasma Chemical Vapor Deposition），其分類是按照成膜機理分的。目前製備鎢薄膜材料通常採用其中一種方法，或結合其他的製備技術以提高鎢薄膜的各項性能要求。
物理氣相沉積指的是通過蒸發、電離/濺射等過程產生的金屬粒子會與反應氣體形成化合物並沉積在工件表面的沉積技術。
物理氣相沉積方法有真空濺射、離子鍍和真空鍍，其中，離子鍍的應用較廣。
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