Tungsten Sputtering Alvo
O que é alvo de pulverização de tungsténio?
Alvo de pulverização de tungsténio, as pessoas também chamá-lo como alvo de tungstênio, a sua qualidade vai influenciar diretamente as propriedades de materiais em película, de modo que os materiais alvo deve cumprir os seguintes requisitos;
1. alta pureza. Se a pureza de alvos de pulverização de tungsténio é mais elevada, o efeito de pulverização catódica - resistência à corrosão do filme será mais forte, e as suas propriedades eléctricas e ópticas será melhor. Normalmente, displays e outros dispositivos semicondutores para requisitos de pureza são mais rigorosas, por exemplo, a pureza do alvo de pulverização de tungstênio para a película fina magnético deve ser superior a 99,9%;
2. Alta densidade: não inferior a 19,1 g / cm³;
3. Tamanho do grão deve ser pequena. Normalmente, a fim de grãos é de um a mm, para a mesma composição de material-alvo, a taxa de tamanho de grão fino de alvos de pulverização mais rapidamente do que os grãos grossos;
4. teor de impureza deve ser baixa. Materiais alvo actuar como um cátodo e as principais fontes de poluição do alvo de pulverização é de poros, tais como, água, oxigénio, impurezas e sólidos. Quanto mais baixo o teor de impurezas, quanto maior for a pureza;
5. A estrutura de composição e organização devem ser uniformes.
Tipos de alvo
A classificação por componente, o alvo pode ser dividido em alvo de metal puro, liga-alvo e alvo de cerâmica.
Tipos de destino em detalhe pode ser visto como a seguir
| Espécies | Composição |
| Metal puro | W (tungsténio), Mo (molibdénio), Ni (níquel), Ti (titânio), Al (alumínio), Ag (prata), Si (silício), Na (índio), Sn (estanho) e assim por diante |
| Liga | W-Cu (liga de tungsténio de cobre), Ag-W (liga de prata-tungsténio), Cu Ni (liga de cobre-níquel), Mo Al (Mo alumínio) e assim por diante |
| Cerâmico | Alvo ITO [Ino (óxido de índio), SnO (óxido de estanho)], NiO (óxido de níquel), WO3 (trióxido de tungstênio), estanho (nitreto de titânio), SiO (monóxido de silício), FeO (óxido de ferro), SiC (carbeto de silício ), ZnO (óxido de zinco), TiN (nitreto de titânio), MgO (óxido de magnésio), SIN (nitreto de silício), CrO (óxido de crómio), ZnS (sulfureto de zinco), SiO2 (dióxido de silício), AlN (nitreto de alumínio), etc. |
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