Tungsteno Target Principio de funcionamiento
La materia prima de la meta de tungsteno es polvo de tungsteno, cuyos tipos comunes son el tipo de destino de arco, plana tipo de destino y rotatorio tipo de destino.
Pulverización catódica: Cuando los iones positivos acelerados por el campo eléctrico (en adelante llamados partículas energéticas), se bombardean la superficie del objetivo, estas partículas energéticas intercambiarán energía con las moléculas y los átomos en la superficie del objetivo, y entonces estos átomos se pulverización fuera de la superficie objetivo.
Revestimiento de pulverización catódica al vacío (sputtering deposición de película): porque los átomos chisporroteaban cabo poseen una cierta energía cinética, que puede volver a la superficie del blanco y formar una película delgada, este proceso se conoce como recubrimiento pulverización catódica al vacío.
Objetivo de tungsteno principio de funcionamiento:
En una cámara de alto vacío (10-3-10-4Pa), la adición de un campo magnético y eléctrico ortogonal entre el cátodo (el electrodo objetivo pulverización catódica) y el ánodo, y luego llenar con un gas inerte (gas argón). En la superficie del material objetivo, de imán permanente generará un campo magnético, que componer un campo eléctrico y magnético cruzado con campo eléctrico de alta tensión. Gas argón en el campo eléctrico será ionizar en iones y electrones, y los electrones emitidos desde el electrodo objetivo, debido al efecto del campo magnético, se formará plasma (con alta densidad) cerca del cátodo. Iones Ar acelerar y bombardean la superficie del blanco, y luego átomos se pulverización catódica a cabo desde el blanco y vuelan al sustrato con mayor energía cinética, y luego depositan en el cine.
Lo que objetivo de tungsteno tiene que tomar en cuenta que se muestra de la siguiente manera:
(1) La pureza de la película. El grado de vacío debe ser mejor; el sustrato debe ser limpiado.
(2) La deposición tasa. Si la tasa de deposición aumenta adecuadamente, se incrementará la tasa de pulverización catódica.
(3) la distribución del espesor de película. El espesor de la película debe ser relativamente uniforme.
(4) Selección de gas de pulverización. Argon generalmente se selecciona como un gas de pulverización catódica.
(5) El voltaje de pulverización y el potencial sustrato. El sustrato no puede ser suspendido.
(6) Pureza del objetivo de tungsteno. Óxidos e impurezas en la superficie objetivo de tungsteno contaminen la pureza de la película.
(7) La temperatura del sustrato. Si la temperatura es demasiado alta, afectará a la estructura de la película.
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