Tungsteno Obiettivo di polverizzazione
Qual è tungsteno bersaglio sputtering?
Tungsten obiettivo sputtering, la gente lo chiamano anche come bersaglio di tungsteno, la sua qualità influenzerà direttamente le proprietà di materiali su pellicola, per cui i materiali bersaglio devono soddisfare i seguenti requisiti;
1. elevata purezza. Se la purezza degli obiettivi tungsteno sputtering è superiore, effetto sputtering - resistenza alla corrosione del film sarà più forte, e le sue proprietà elettriche ed ottiche sarà migliore. Di solito, monitor e altri dispositivi a semiconduttore per i requisiti di purezza sono più rigorosi, ad esempio, la purezza del target tungsteno sputtering per film sottile magnetico dovrebbe essere superiore al 99,9%;
2. Alta Densità: non inferiore a 19.1g / cm³;
3. Grana dovrebbe essere piccolo. Solitamente, l'ordine dei grani è da micron a mm, per la stessa composizione di materiali bersaglio, il tasso di grana fine di obiettivi di polverizzazione più velocemente dei cereali;
4. contenuto impurità dovrebbe essere bassa. Materiali bersaglio agiscono come catodo e le principali fonti di inquinamento di destinazione sputtering è dai pori, come, acqua, ossigeno, e solidi impurità. Minore è il contenuto di impurità, maggiore è la purezza;
5. La struttura composizione e l'organizzazione dovrebbe essere uniforme.
Tipi di bersaglio
Classificazione per componente, l'obiettivo può essere diviso in bersaglio metallico puro, bersaglio lega e bersaglio ceramica.
Processo di produzione:
Materie prime → IF (Frequenza intermedia) sinterizzazione induzione → laminazione a caldo → laminazione a freddo → ricottura → taglio → lavorazione → bersaglio tungsteno
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