Tungsten cible de pulvérisation
Quel est le tungstène cible de pulvérisation?
Tungsten cible de pulvérisation, les gens appellent aussi comme cible de tungstène, sa qualité va directement influencer les propriétés des matériaux de films, de sorte que les matériaux cibles doivent répondre aux exigences suivantes;
1. haute pureté. Si la pureté de tungstène cibles de pulvérisation est plus élevé, l'effet de pulvérisation - résistance à la corrosion du film sera plus forte, et ses propriétés électriques et optiques sera mieux. Habituellement, écrans et autres dispositifs semi-conducteurs pour les exigences de pureté sont plus strictes, par exemple, la pureté de la cible de tungstène de pulvérisation pour le film mince magnétique doit être supérieure à 99,9%;
2. haute densité: pas moins de 19,1 g / cm³;
3. La taille du grain devrait être faible. Habituellement, l'ordre des grains est de um à mm, pour la même composition de matériaux cibles, le taux de granulométrie fine de cibles de pulvérisation plus vite que les céréales secondaires;
4. impureté contenu devrait être faible. matériaux cibles agissent comme une cathode et les principales sources de pollution de cible de pulvérisation est comprise entre les pores, comme l'eau, de l'oxygène et des impuretés solides. Plus la teneur en impuretés, plus la pureté;
5. La structure de la composition et de l'organisation doit être uniforme.
Types of target
Classification by component, the target can be divided into pure metal target, alloy target and ceramic target.
Target types in detail can be seen as below
| Espèce | Composition |
| Métal pur | W (tungstène), Mo (molybdène), Ni (nickel), Ti (titane), Al (aluminium), Ag (argent), Si (silicium), In (indium), Sn (étain), etc. |
| Alliage | W-Cu (cuivre alliage de tungstène), Ag-W (alliage d'argent-tungstène), Cu Ni (alliage de cuivre-nickel), Mo- Al (Mo aluminium) et ainsi de suite |
| Céramique | Cible ITO [InO (oxyde d'indium), SnO (oxyde d'étain)], NiO (oxyde de nickel), WO3 (trioxyde de tungstène), TiN (nitrure de titane), SiO (monoxyde de silicium), FeO (oxyde de fer), le SiC (carbure de silicium ), ZnO (oxyde de zinc), TiN (nitrure de titane), MgO (oxyde de magnésium), SiN (en nitrure de silicium), CrO (oxyde de chrome), ZnS (en sulfure de zinc), SiO2 (dioxyde de silicium), AIN (nitrure d'aluminium), etc. |
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