Tungsteno Blanco de la farfulla

Lo que es el objetivo de pulverización catódica de tungsteno?
Tungsteno blanco de pulverización, la gente también lo llaman como blanco de tungsteno, su calidad influirá directamente las propiedades de materiales de película, por lo que los materiales objetivo deben cumplir con los siguientes requisitos;

1. alta pureza. Si la pureza de blancos de pulverización catódica de tungsteno es más alta, el efecto de pulverización catódica - resistencia a la corrosión de la película será más fuerte, y sus propiedades eléctricas y ópticas será mejor. Por lo general, pantallas y otros dispositivos semiconductores para requisitos de pureza son más estrictas, por ejemplo, la pureza de blanco de pulverización de tungsteno para película delgada magnética debe ser superior a 99,9%;
2. Alta densidad: no menos de 19,1 g / cm³;
3. El tamaño del grano debe ser pequeña. Por lo general, el orden de los granos es de m a mm, para la misma composición de materiales diana, la tasa de tamaño de grano fino de blancos de pulverización más rápido que los granos gruesos;
4. contenido de impurezas debe ser baja. Los materiales diana actúan como un cátodo y las principales fuentes de contaminación de blanco de pulverización es de los poros, tales como, agua, oxígeno, impurezas y sólidos. Cuanto menor sea el contenido de impurezas, mayor será la pureza;
5. La estructura de la composición y la organización debe ser uniforme.

blanco de pulverización de tungsteno la Circular objetivo de tungsteno en el paquete vacío

Tipos de meta
Clasificación por componente, el objetivo se puede dividir en blanco de metal puro, objetivo de aleación y diana de cerámica.

Proceso de producción:
Materias primas → IF (Frecuencia Intermedia) sinterización inducción → laminación en caliente →laminación en frío → recocido → corte →mecanizado → objetivo de tungsteno

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